温州气氛炉厂家 气氛炉订做
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产品描述

炉膛容积:200*150*150mm 温度稳定性:±1℃ 温度:1400℃ 升温速度:可以设定,一般60分钟内即可升到1400℃ 炉膛材料:采用多晶复合纤维材料, 整机真空度:1.33Pa 电源电压:220V\380V 功率:功率:
箱式气氛炉整个炉体采用双层内胆式结构,中间有气隙隔离,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理。该炉配有通讯接口和软件,可以直接通过电脑控制炉子的各个参数,并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况,炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出,并能把每个时刻的温度数据保存起来,随时可以调出。应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行烧结。箱式气氛炉控制系统本电炉为冰箱式一体结构,控制系统安放在炉体下方,美观大方。仪表采用上海国龙温控表、温度控制采用PID自动控制、自动升温调节。
实验气氛炉是奥菲达仪器专为学校实验室精心研制的气氛炉,产品具有合理的结构,升温快,操作简便等特点,实验气氛炉掺钼铁铬铝合金电阻丝为加热元件,采用真空成型工艺技术生产的进口无机纤维作为炉膛的保温材料和的绝热设计。炉体采用双层炉壳结构,隔热材料,并配有冷却风扇,使炉体外表面温度低,比普通窑炉节能60% 。炉门、炉**采用高温硅橡胶密封,炉门配备水冷系统。可预抽真空并可通入多种惰性气体。
1200℃实验气氛炉适用范围:
实验气氛炉适用于高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、新材料开发、**物质灰化、质量检测和小型钢件等加热、焙烧、热处理之用,也适用于、电子、医药、特种材料等生产和实验。
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高温真空气氛炉 箱式气氛炉
1、采用特种设计技术,具有操作安全、方便、真空度好,,密封性好,真空保持时间长。
2、该气氛炉可充入高压气体,气氛压力限值0.1MPa,采用*特的密封技术,可长时间保压,安全性能好,操作方便。
3、采用双层壳体结构和40段程序控温系统,移相触发、可控硅控制。
4、炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速对温控系统降温。
5、气氛炉采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫、并通有水冷系统。
6、气体经过流量计后由后膛进出,有多处洗炉膛进气口、口处有燃烧嘴。
7、可以通氩气、氢气、氧气、氮气、一氧化碳、氨分解气等气体。
8、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院机构、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
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气氛炉日常中应该如何进行保养操作:
1、定期检查各接线头接触是否良好。
2、根据工艺设定温度,通电加温、保温。
3、通过调查流量和控制出水口温度在40℃cgh。
4、车间须配备1/2管以水源后力达0.2MPa。
5、接通充气口充入CO2及其它保护气体,当气氛炉压力表指示在0.02~0.04MPa时,停止充气。
6、保持炉膛清洁,对炉内的金属氧化物,炉渣和杂质等应及时清除。装卸工件时应谨慎,以防碰坏硅钼棒。
7、当炉温升高,应随时注意,压力长,间断打开放气阀门,使炉胆内的压力在0.1MPa以下,这时胆的油烟等杂质可随之排出。
8、硅钼棒碱、碱金属、硅酸及硼化合物在高温下对它能起腐蚀作用,水蒸气对它有强烈的氧化影响,氢及含有大量氢的气体在高温时会分解硅钼棒,使用时必须严加注意。
9、气氛炉实行光亮退火,在升温时打开放气阀,随后充入保护气体,流量由小变大,当气氛炉炉内压力为正压时,即关闭全部阀门,此工艺应经工艺试验,
10、使用时不得过额定功率,能正确的安装与保养吗气氛炉炉温不得过高使用温度。禁止将潮湿工件装入炉膛内,含有过高水份的被加热工件应预先烘干。
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注意事项
1、  为两不影响电炉的使用寿命,我们建议升温速率和降温速率为10-20℃/min,(升温过快发热元件寿命会缩短)
2、  此电炉不可通入易燃易爆气体
3、  此电炉使用一段时间后,炉膛会出现微小的裂纹,这属于正常现象,不会影响使用,同时可以用氧化铝涂层进行修补
4、  不建议通入腐蚀性气体,如果要通入强腐蚀性气体如S、Na等,请提前告知,我们将对炉膛进行处理
5、  不能将高温溶液漏到炉底上,避免方案可采用垫板或者氧化铝粉隔离
6、  仪器应放置在空气流通,不潮湿的地方。
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